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SEMICON China 2010
当社はこの度、3/16（火)より上海(中国)で開催されます「
SEMICON China 2010
」において株式会社ハイテック・システムズ殿ブース内に出展致しますので、是非お立ち寄り下さい。
名 称
SEMICON China 2010
会 期
2010年3月16日(火)〜18日(木)
会 場
Shanghai New International Expo Centre（SNIEC)
ブース No.
3130
MAP
入場方法
招待券有の場合…無料
展示予定製品
株式会社ハイテック・システムズ殿ブース内にて、下記製品のパネル展示を 行う予定です。
1.ウェハ検査システム（型式WIS-2010C/WIS-2010S)
ウェハを高速（1秒/枚)で検査することができる。
検査はウェハ外観、厚み測定、マイクロクラック、ソーマーク、抵抗測定、
ライフタイム測定（オプション対応）が可能でコストパフォーマンスに優れている。
2.モジュール検査システム（型式MEI/MI)
モジュールを高速で検査することができる。
検査は外観検査（マイクロクラック、フィンガー損傷、導通不良）を行い、
良否の自動判定を行う。結晶系/薄膜系セルの両モジュールに対応可能で
顧客ニーズに合わせインラインへの組込みも可能である。
展示会公式サイト
http://semiconchina.semi.org/scchina-en/
是非とも弊社ブースにお立ち寄りくださいますよう心よりお待ち申し上げております。
